一、特點

1、適合于鋅合金、鋁合金、釹鐵硼及鋼基材的打底鍍層。

2、易操作，滾鍍及掛鍍皆宜。

項 目

操作條件

rc-666a環(huán)保鍍銅開缸a劑

500毫升/升

溫度

45-55℃

ph

鐵基材11-13；鋅合金10-12

電流密度

0.5-3安培/平方分米

陽極

電解銅+不銹鋼陽極

攪拌

滾動或機械搖擺

過濾

連續(xù)過濾

三、生產維護

1、生產過程中銅離子控制在8-12克/升，銅離子含量可采用化學分析來測定，并通過 調節(jié)石墨陽極與電解銅的陽極面積比例來進行管控。

2、rc-666a環(huán)保鍍銅開缸劑只在新開槽時使用，日常生產只需添加rc-666b環(huán)保鍍銅補充劑。

3、rc-666b環(huán)保鍍銅補充劑可通過分析補充，。

詳細請咨詢，可研發(fā)達到要求

5、銅離子不足時，鍍層高區(qū)粗糙，沉積速度下降，可通過提高電解銅陽極面積比例來提高銅離子濃度。

6、銅離子過量時，鍍層低區(qū)粗糙，可適量補充rc-666b環(huán)保鍍銅補充劑。

7、rc-666b不足時，鍍層低區(qū)粗糙，可適量補充rc-666b環(huán)保鍍銅補充劑。

8、rc-666b過量時，沉積速度下降，可適量提高銅離子濃度。

9、若因前序工序或原材料帶入的異金屬或有機物雜質，造成鍍層發(fā)暗發(fā)灰，可以用活性炭處理。

五、廢水處理

1、廢水排放按常規(guī)破絡合劑方法進行處理，詳細方案請咨詢本公司技術部。

詳細請咨詢，可研發(fā)達到要求