廢ITO靶材回收的核心挑戰(zhàn)在于：

成分復(fù)雜：除In?O?、SnO?外，含粘結(jié)劑、金屬背板（銅/鉬）等。

高純度要求：再生銦純度需達(dá)99.99%以上，雜質(zhì)含量需嚴(yán)格控制在ppm級(jí)，否則影響新靶材性能。

銦錫分離：分離銦錫是實(shí)現(xiàn)價(jià)值化的關(guān)鍵。

閉環(huán)工藝：價(jià)值再造的精益之路

ITO（氧化銦錫，Indium Tin Oxide）靶材廣泛應(yīng)用于液晶顯示器、觸摸屏、太陽(yáng)能電池等行業(yè)。隨著ITO靶材的廣泛使用，其回收再利用成為降低成本、減少資源浪費(fèi)、保護(hù)環(huán)境的重要環(huán)節(jié)。

ITO靶材回收流程：

1. 收集廢靶材：收集來(lái)源：面板廠、鍍膜廠等使用ITO靶材的企業(yè)。

2. 表面處理/預(yù)處理 ：清洗表面雜質(zhì)、油污、物理去除殘留膜層

3. 靶材分離：機(jī)械切割或分解、分離金屬基板與ITO涂層

4. 濕法冶金回收：用酸（如硝酸、鹽酸等）溶解ITO層、萃取液中回收銦和錫元素

5. 純化與精煉 萃取、沉淀等精細(xì)化學(xué)手段，獲得高純度的銦、錫化合物

6. 再利用 提純后的銦、錫用于制備新ITO靶材或其他用途

從電子廢物和廢ITO靶材等廢物來(lái)源中回收氧化銦是銦回收的一個(gè)重要方面。從這些廢源中回收氧化銦可以通過(guò)各種工藝實(shí)現(xiàn)，包括化學(xué)處理、溶劑萃取和離子交換，回收的氧化銦可用于生產(chǎn)各種半導(dǎo)體器件，從而減少對(duì)新銦資源的需求，并將銦開(kāi)采對(duì)環(huán)境的影響降至。