工藝升級(jí)：智能控制更

現(xiàn)在的電鍍填孔設(shè)備已經(jīng)能通過(guò)傳感器實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)電鍍液的成分和溫度，自動(dòng)調(diào)整參數(shù)。比如，當(dāng)檢測(cè)到孔內(nèi)銅離子濃度下降時(shí)，設(shè)備會(huì)自動(dòng)增加電流密度，確保填充均勻。這種智能化工藝讓生產(chǎn)良率從 85% 提升到了 98%。

孔金屬化：多層板的 “關(guān)鍵步驟”

多層板的過(guò)孔（孔徑通常 0.2-0.8mm）內(nèi)壁為絕緣樹(shù)脂，需通過(guò)以下步驟實(shí)現(xiàn)導(dǎo)電：

除膠渣：用高錳酸鉀溶液氧化孔壁的樹(shù)脂殘?jiān)ㄣ@孔時(shí)產(chǎn)生），避免殘?jiān)绊懡饘俑街?

化學(xué)鍍銅（沉銅）：在無(wú)外接電源的情況下，將基板浸入含硫酸銅、甲醛（還原劑）的鍍液中，通過(guò)化學(xué)反應(yīng)在孔壁和基板表面沉積一層薄銅（厚度 0.5-1μm），形成初始導(dǎo)電層。

原理：甲醛將 Cu2?還原為 Cu 單質(zhì)，均勻附著在非導(dǎo)電的孔壁上。

電解鍍銅（加厚銅）：將沉銅后的基板作為陰極，放入含硫酸銅、硫酸的鍍液中，通以直流電（電流密度 1-2A/dm2），使銅離子在陰極放電沉積，將孔壁和線(xiàn)路銅層增厚至 15-35μm（滿(mǎn)足電流承載需求）。

選擇性電鍍（Selective Plating）

核心原理：通過(guò)遮蔽手段（如耐電鍍油墨、硅膠塞、工裝夾具）保護(hù) PCB 非待鍍區(qū)域，僅讓目標(biāo)區(qū)域（如焊盤(pán)、金手指）接觸電鍍液并沉積金屬，實(shí)現(xiàn) “局部鍍層” 效果。

工藝特點(diǎn)：

無(wú)需后續(xù)蝕刻，直接在指定區(qū)域形成鍍層，減少材料浪費(fèi)；

遮蔽精度要求高（尤其細(xì)間距焊盤(pán)，遮蔽偏差易導(dǎo)致鍍層缺陷）；

可靈活選擇不同鍍層（如焊盤(pán)鍍錫、金手指鍍金），兼容性強(qiáng)。

PCB 應(yīng)用場(chǎng)景：

PCB “金手指” 電鍍（僅手指區(qū)域鍍金，其他區(qū)域鍍錫或裸銅，降低成本）；

局部焊盤(pán)的特殊鍍層需求（如高頻 PCB 的信號(hào)焊盤(pán)鍍銀，減少信號(hào)損耗）；

修復(fù)性電鍍（如 PCB 局部鍍層磨損后，針對(duì)性補(bǔ)鍍）。

垂直連續(xù)電鍍（Vertical Continuous Plating，VCP）

核心原理：PCB 以垂直姿態(tài)連續(xù)通過(guò)多個(gè)電鍍槽（依次經(jīng)過(guò)酸洗、活化、電鍍、清洗等工序），通過(guò)槽內(nèi)的導(dǎo)電輥施加電流，配合高速?lài)娚涞碾婂円?，?shí)現(xiàn) “連續(xù)化、自動(dòng)化” 電鍍。

工藝特點(diǎn)：

自動(dòng)化程度高（無(wú)需人工上下料，適合大批量流水線(xiàn)生產(chǎn)）；

鍍層一致性好（PCB 垂直移動(dòng) + 均勻噴射，減少工件正反面、邊緣與中心的鍍層差異）；

設(shè)備占地面積大，初期投入成本高（需配套多槽聯(lián)動(dòng)系統(tǒng)、自動(dòng)控制系統(tǒng)）。

PCB 應(yīng)用場(chǎng)景：

大批量常規(guī) PCB 的全板電鍍 / 通孔電鍍（如消費(fèi)電子 PCB、手機(jī) PCB，日均產(chǎn)能可達(dá)數(shù)萬(wàn)塊）；

要求高一致性的鍍層生產(chǎn)（如汽車(chē)電子 PCB，需保證每塊 PCB 的鍍層厚度偏差≤10%）。